继Science之后,段镶锋再发Nature!

二维半导体,因其独特的光物理特性而引起人们的广泛关注,其中,包括大激子束缚能和强门可调谐性,这是由于二维半导体的维数降低而引起的。尽管人们付出了相当大的努力,但在原始2D半导体的基本光物理和实际设备性能之间仍然存在脱节,这经常受到许多外在因素的困扰,包括半导体-接触界面的化学紊乱。
在此,来自美国加州大学洛杉矶分校的Justin R. Caram & 段镶锋等研究者,通过使用具有最小界面紊乱范德华接触,抑制了接触诱导的Shockley-Read-Hall复合(肖克莱里德霍尔复合),并在二维半导体二极管中实现了几乎由固有光物理决定的器件性能。相关论文以题为“Approaching the intrinsic exciton physics limit in two-dimensional semiconductor diodes”于2021年11月17日发表在Nature上。
继Science之后,段镶锋再发Nature!
纳米半导体,如二维(2D)材料和胶体量子点,具有较弱的介电屏蔽和较强的约束效应,导致异常大的激子(电子空穴准粒子)结合能(EB > 100 meV),因此,即使在室温下,激子也常常控制着纳米级光电器件的性能。
这与传统半导体(例如砷化镓和硅)相反,在传统半导体中,自由载流子通常由于更小的激子束缚能(EB< kBT ≈ 26 meV,其中kB是玻尔兹曼常数,T是温度)。激子的主导作用可能导致独特的纳米器件特性。例如,电子-电子/空穴和空穴-电子/空穴的俄歇复合现在是一个两体(电荷-激子)过程,线性依赖于电子或空穴密度。
此外,固有的较低的维数自然地导致扩散物种的多体散射概率增强,导致较短的扩散长度和较低的器件效率。然而,尽管激子在纳米半导体中普遍存在,但由于接触或介质界面的非理想性造成的严重外部损失,直接将光电器件的特性与激子行为联系起来仍然具有挑战性。
在此,研究者展示了具有近乎理想金属-半导体接口的范德瓦尔斯(vdW)接触式二维二极管近本征激子光电器件性能。通过将光电子学研究与时间分辨光致发光(TRPL)测量相结合,来探测电荷密度依赖的光伏性能,研究者揭示了激子扩散和二体激子电荷奥杰复合,在决定2D二极管性能中的基本作用,并证明了一个大大增强的光电流接近本征激子光物理极限。
研究者利用分闸几何结构中的静电场,独立调制二硒化钨二极管中的电子和空穴掺杂,发现在低电荷密度的短路光电流中有一个不寻常的峰值。时间分辨光致发光显示,由于激子-电荷俄歇复合的增加,激子寿命从电荷中性状态下的800皮秒大幅降低到高掺杂密度下的50皮秒。
综上所述,研究者发现激子扩散限制模型,很好地解释了电荷密度依赖的短路光电流,这一结果进一步通过扫描光电流显微镜得到证实。
因此,研究者展示了激子扩散和两体激子-电荷俄格复合,在二维器件中的基本作用,并强调了二维半导体的固有光物理学,可以用于创建更高效的光电器件。

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图1. 原子薄WSe2 p-n二极管具有原子清洁vdW触点

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图2. 2D WSe2 p-n二极管的掺杂相关光电性能

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图3. 依赖掺杂的TRPL和激子荷电俄歇

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图4. 光电流与激子寿命的关系
据悉,这是段镶锋教授继9月16日的Science之后,仅仅过了一个月,又发了一篇Nature。至此,截止2021年11月17日,段镶锋教授在2021年,已经发表了3篇Nature和1篇Science,剩余两篇如下:
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作者简介:
继Science之后,段镶锋再发Nature!
段镶锋,1992年考入中国科学技术大学少年班,1996年获郭沫若奖学金,1997年获学士学位,1998年获得哈佛大学全额奖学金赴美深造,1999年和2000年两度获得“MRS全美杰出研究生奖”,2001年获得“全美发明家竞赛大奖”,同年,他和另一位科大学子黄昱合作完成的纳米成果被Science评为2001年世界十大科技进展,并名列榜首,2002年获得博士学位,2003年他被美国Technology Review评为当年的“世界百位杰出青年发明家”之一。
段镶锋博士在Nature、Science等顶尖国际权威刊物上发表过多篇论文,总被引次数超过77212次,并拥有超过40项美国专利。现任职于著名的纳米技术公司Nanosys,从事纳米科技研究和产品开发。
继Science之后,段镶锋再发Nature!
2011年2月10日,全球领先的专业信息供应商汤森路透集团(Thomson Reuters)发布了2000-2010年全球顶尖一百化学家名人堂榜单(TOP100CHEMISTS,2000-2010),这份依据过去10年中所发表研究论文的影响因子而确定的最优秀的100名化学家榜单中,共有12位华人科学家入选,美国加州大学洛杉矶分校助理教授段镶锋排名全球第41位,华人第7位。汤森路透集团于2011年3月2日发布了2000-2010年全球顶尖一百材料学家名人堂榜单,在这份依据过去10年中所发表研究论文的引用率而确定的最优秀的100名材料学家榜单中,共有15位华人科学家入选,段镶锋(Xiangfeng DUAN),全球总排名第20位,华人第7位。
研究领域包括:纳米材料、纳米器件及其在未来电子、能源技术和生物医学科学中的应用等。
文献信息
Chen, P., Atallah, T.L., Lin, Z. et al. Approaching the intrinsic exciton physics limit in two-dimensional semiconductor diodes. Nature (2021). https://doi.org/10.1038/s41586-021-03949-7

原文链接:

https://www.nature.com/articles/s41586-021-03949-7#citeas

http://xduan.chem.ucla.edu/?q=content/xiangfeng-duan-ph-d

原创文章,作者:Gloria,如若转载,请注明来源华算科技,注明出处:https://www.v-suan.com/index.php/2023/10/18/1119b91c71/

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