​王心晨/阳灿/徐刚Angew:选择性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低浓度H2S光化学检测

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气体传感作为一种重要的信息技术之一最近受到人们广泛关注。与使用精密仪器或在复杂操作条件下使用的方法相比,化学电阻性气体传感器因其低成本、便携性和不同可用的传感材料而更为优越。金属氧化物半导体(MOS)具有良好的稳定性和环保性能,长期以来一直被用作传感材料。为了提高MOS材料在热场作用下的灵敏度,人们采用了控制晶粒尺寸和提高工作温度等几种策略。将吸附在MOS上的氧在高操作温度(100-450 °C)下电离,建立活性物种。实际上,大多数MOS材料在室温下几乎无反应,由于热成熟、烧结或目标气体分子中毒,其仍然存在一些敏感性降解的问题。
作为一种替代方法,MOS的内部光载流子可以被光激发,原则上可以在室温下用于产生气体传感的活性氧。一些MOS材料在光照下对特定的气体有响应,但人们很少在原子水平上解释光驱动传感过程的机理,导致对光生载流子与目标气体分子相互作用过程的了解不足。因此,需要开发具有高灵敏度的高效光活化传感材料并进行深入研究,对进一步改进MOS以提高气敏性能具有参考意义,也为基础研究和技术应用提供机会。
​王心晨/阳灿/徐刚Angew:选择性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低浓度H2S光化学检测
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近日,福州大学王心晨阳灿中国科学院福建物构所徐刚等报道了一种光化学(BiVO4)传感材料,该材料具有很大比例的(110)和(011)面和附加的(111)面,可用于可见光驱动的选择性检测超低浓度H2S。
与十面体BiVO4(Deca-BiVO4)相比,通过晶面工程,Octa-BiVO4具有更大的比例的光氧化表面,提高了各向异性光诱导载流子分离,使Octa-BiVO4的传感性能优于Deca-BiVO4。同时,(111)面的暴露实现了Octa-BiVO4在V位点上对H2S的特征吸附,导致对H2S具有较高的选择性,降低了目标气体的检测限。
​王心晨/阳灿/徐刚Angew:选择性暴露BiVO4上特定晶面,用于超低浓度H2S光化学检测
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同时,Octa-BiVO4在光照条件下的传感性能优于加热条件下,显示了照明的优势和独特的作用。同时,Octa-BiVO4还显示出优越的耐久性,因为H2S被氧化为元素硫(S)和二氧化硫(SO2),避免了硫中毒。
此外,结合实验结果和密度泛函理论(DFT)计算,研究人员提出了可能的机理:1.光照使光生空穴(h+)和电子(e)分别迁移到光氧化和光还原表面,与V原子结合的-OH基团与h+结合,转化为•OH,导致电流增加;2.H2S首先吸附在(111)面的V原子上,随后被•OH氧化成S和SO2,导致电子从H2S转移到Octa-BiVO4,进一步提高电流;3.H2S检测后,空气中的O2分子吸附到V原子上,捕获e以恢复电流值,然后与水中的质子结合转化为-OH,实现气敏循环。
Crystal engineering of BiVO4 for photochemical sensing of H2S gas at ultra-low concentration. Angewandte Chemie International Edition, 2023. DOI: 10.1002/anie.202314891

原创文章,作者:Gloria,如若转载,请注明来源华算科技,注明出处:https://www.v-suan.com/index.php/2023/11/15/0365b56bd5/

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