


的反应完全不同。N2暴露后,N 1s强度几乎立即饱和并保持恒定,对应于单分子层的覆盖率为5%,并且在623 K时没有形成大量氮化物(图2c)。该覆盖率与之前的工作相当,预测在500 K和100 mbar压力下单层膜的覆盖率为17%。

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的反应完全不同。N2暴露后,N 1s强度几乎立即饱和并保持恒定,对应于单分子层的覆盖率为5%,并且在623 K时没有形成大量氮化物(图2c)。该覆盖率与之前的工作相当,预测在500 K和100 mbar压力下单层膜的覆盖率为17%。

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